Xin chào đến với Website của chúng tôi!

Liên hệ tư vấn:

0975678166

Liên hệ tư vấn:

0992288111

Nguồn Plasma RF – Dòng ICP công suất cao

VNĐ 1.700.000.000

Hãng sản xuất: Minder Hightech

Xuất xứ: China

Bảo hành: 12 Tháng

Liên hệ tư vấn MIỄN PHÍ GIÁ TỐT NHẤT

0992288111

Thông số	Model 1 Wafer	Model 2 Wafer
Công suất RF	1000W	1000W
Công suất BIAS	600W (tùy chọn)	600W (tùy chọn)
Kích thước wafer xử lý	4 ~ 8 inch	4 ~ 8 inch
Số lượng wafer xử lý / lượt	1	2
Kích thước thiết bị (D x R x C)	1080 x 1840 x 1800 mm	1340 x 2050 x 1800 mm
Điều khiển	Hệ thống điều khiển công nghiệp	Hệ thống điều khiển công nghiệp

Đặc điểm nổi bật	Mô tả
Tự động hóa cao	Tích hợp nền tảng nạp wafer tự động, hỗ trợ đồng thời 4 đĩa thạch anh
Hiệu suất bóc tách cao	Ứng dụng plasma mật độ cao giúp tăng tốc độ xử lý
Độ ổn định quy trình	Đảm bảo tái lập kết quả sau mỗi lần xử lý plasma
Plasma từ xa	Giảm thiểu tổn hại ion lên bề mặt wafer nhờ thiết kế buồng plasma từ xa
Phần mềm độc quyền	Giao diện trực quan, hiển thị quá trình xử lý bằng hoạt họa, đầy đủ dữ liệu và báo cáo
Kiểm soát chính xác	Điều chỉnh áp suất và nhiệt độ linh hoạt qua van bướm chuyên dụng
An toàn sản phẩm	Plasma năng lượng thấp giúp hạn chế tác động nhiệt và điện lên bề mặt vật liệu
Hậu mãi chuyên nghiệp	Hỗ trợ kỹ thuật nhanh chóng, linh kiện thay thế sẵn có
Kiểm soát bụi	Đáp ứng tiêu chuẩn kỹ thuật nghiêm ngặt theo yêu cầu ứng dụng
Phát triển nội địa	Hơn 30% đội ngũ là R&D, linh kiện lõi được thiết kế và sản xuất độc lập, giảm rủi ro chuỗi cung ứng

Có thể bạn quan tâm

CÔNG TY TNHH MẠNG LƯỚI NHÀ ĐẦU TƯ THIÊN THẦN VIỆT NAM IANGEL – (iAngel Co.,Ltd.)

Trụ sở:

Nhà số 3, ngách 146/29 ngõ 146 đường 19/5, phường Văn Quán, quận Hà Đông, TP. Hà Nội, Việt Nam

Mã số thuế:

0109305722

Theo dõi chúng tôi:

Đăng ký tư vấn

Nhập số điện thoại của bạn và chúng tôi sẽ liên hệ tư vấn sản phẩm phù hợp cho doanh nghiệp của bạn

Liên hệ:

Công ty:

Về chúng tôi

Copyright © 2025 HiTech Angel. All rights reserved